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超纯水系统

EDI超纯水系统:电渗析与混床结合的连续除盐工艺EDI超纯水系统:电渗析与混床结合的连续除盐工艺EDI超纯水系统:电渗析与混床结合的连续除盐工艺EDI超纯水系统:电渗析与混床结合的连续除盐工艺EDI超纯水系统:电渗析与混床结合的连续除盐工艺 悬停放大 / 点击看大图

EDI超纯水系统:电渗析与混床结合的连续除盐工艺

EDI超纯水系统采用电渗析与离子交换混床相结合的连续除盐工艺,无需化学再生即可稳定产出高纯水,电阻率可达18.2 MΩ·cm。
产品核心卖点
  • 01
    出水稳定达标
    符合 GB6682-2008 一级 / 美国 CAP TYPE I 标准
  • 02
    进口核心部件
    泵、膜、仪表等关键件原装进口,品质可靠
  • 03
    皮实耐用
    结构扎实、故障率低、寿命长,适合长期连续运行
  • 04
    一键全自动
    开机即出水,自动冲洗、保护与故障报警
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连续电除盐(EDI)技术,无需酸碱再生即可稳定产出高纯水,适用于电子、半导体、制药及实验室。

工艺流程

EDI模块通常以前级RO产水为进水。在直流电场作用下,EDI连续完成离子迁移、树脂连续电再生,实现无化学再生高纯水制取。可根据水质要求配置单级RO、双级RO或RO+混床+抛光等工艺。


1744536573817242.jpgEDI超纯水系统 工艺流程图

工艺组合

原水 → 原水箱 → 增压泵 → 机械过滤 → 活性炭 → 软化器 → 精密过滤 → 一级高压泵 → 一级RO → 纯水箱

典型出水

电导率 ≤ 10 μS/cm(单级RO)

材质

不锈钢

适用行业

饮用纯净水、食品、饮料、化工、水产、农业等

EDI进水要求

RO产水,电导率 < 20 μS/cm

进水pH

7.5 – 9

进水温度

15 – 35 °C

进水压力

0.15 – 0.4 MPa

进水硬度

< 1.0 ppm(以CaCO₃计),建议 < 0.5 ppm

进水TOC

< 0.5 ppm

进水二氧化硅

< 0.5 ppm

总二氧化碳

< 3 ppm

进水颗粒

< 1 μm


功能特点

  • 出水水质高且稳定

  • 连续不间断运行,无需停机再生

  • 模块化结构,全自动控制

  • 无需酸碱再生,无酸碱废水排放

  • 无需再生设备,省去化学品储运

  • 结构紧凑,节省占地

  • 运行维护成本低

  • 操作简单,劳动强度低


    EDI超纯水系统


适用范围

  • 饮用纯净水及饮料生产

  • 食品、精细化工加工

  • 电镀、电池制造

  • 电子、半导体、微电子生产

  • 制药、生物技术

  • 高纯分析、LCD、芯片及高端制药制造

EDI超纯水系统

EDI超纯水系统

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